#plasma
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El concepto jurídico de la sangre y sus derivados desde la perspectiva del derecho comunitario y español. (The juridical concept of blood and its deriveds in the perspective of spanish and european law)
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In this chapter we study the properties of a plasma in an electric field Our treatment of magnetized plasmas will await consideration of individual charged particle orbits in spatially and time varying electric and magnetic fields presented in Chapter Thus in this chapter the Lorentz force is simple F qE We look at basic phenomena such as plasma breakdown equilibrium di usion and plasma wall interactions including sheath physics and Langmuir probes To commence let us look at plasma equilibrium in the presence of an E field
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Rapports de stage
In this chapter we study the properties of a plasma in an electric field Our treatment of magnetized plasmas will await consideration of individual charged particle orbits in spatially and time varying electric and magnetic fields presented in Chapter Thus in this chapter the Lorentz force is simple F qE We look at basic phenomena such as plasma breakdown equilibrium di usion and plasma wall interactions including sheath physics and Langmuir probes To commence let us look at plasma equilibrium in the presence of an E field
22 pages
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Cerebrospinal fluid and plasma cytokines after subarachnoid haemorrhage: CSF interleukin-6 may be an early marker of infection
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Investigation of supercapacitors with carbon electrodes obtained from argon-acetylene arc plasma ; Superkondensatorių su anglies elektrodais, suformuotais iš elektrolankinio išlydžio argono-acetileno plamos, tyrimas
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Plasma levels of lipometabolism-related miR-122 and miR-370 are increased in patients with hyperlipidemia and associated with coronary artery disease
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Intitulé du sujet Etude de la gravure plasma du CdHgTe pour application aux détecteurs infrarouge de troisième génération Résumé du sujet Le Département d'Optronique du LETI mène des travaux de recherche et de développement sur des imageurs infrarouge base de matrices de photodiodes réalisées sur le semi conducteur composé CdxHg1 xTe La prochaine génération de détecteurs infrarouge intégrera de nouvelles fonctionnalités telles la détection de plusieurs longueurs d'ondes multispectral ou l'utilisation d'effet de gain dans des structures de photodiodes avalanche ou APD pour Avalanche PhotoDiode Ces développements nécessitent une excellente connaissance des paramètres physiques du matériau notamment dopage mobilité et durée de vie des porteurs ainsi qu'une bonne adaptation et un bon contrôle des procédés technologiques de fabrication Parmi ces procédés la gravure assistée par plasma du CdxHg1 xTe apparaît comme une étape incontournable mais encore mal maîtrisée En particulier les mécanismes de gravure et l'influence de l'étape sur les propriétés électriques du matériau en modifiant le dopage ou la durée de vie des porteurs minoritaires ainsi que sur la surface des motifs photolithographiés apparition de rugosité modification de la stoechiométrie restent mal connus Cette étape est donc un point clé qu'il nous faut étudier de façon approfondie pour permettre l'utilisation de la gravure plasma dans les procédés de fabrication des prochaines générations de détecteurs Descriptif du sujet Le Laboratoire Infrarouge LIR du Département d'Optronique du CEA LETI développe depuis ans des technologies de détection infrarouge IR dont les très bonnes performances lui ont permis d'acquérir un statut de laboratoire de référence au niveau mondial Ces technologies sont transférées l'industriel Sofradir n°2 mondial du secteur qui produit des matrices de détection de 2ème génération sous licence exclusive du CEA Ces générations de détecteurs dits monospectraux travaillent dans une bande unique définie par la composition du matériau ...
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Rapports de stage
Intitulé du sujet Etude de la gravure plasma du CdHgTe pour application aux détecteurs infrarouge de troisième génération Résumé du sujet Le Département d'Optronique du LETI mène des travaux de recherche et de développement sur des imageurs infrarouge base de matrices de photodiodes réalisées sur le semi conducteur composé CdxHg1 xTe La prochaine génération de détecteurs infrarouge intégrera de nouvelles fonctionnalités telles la détection de plusieurs longueurs d'ondes multispectral ou l'utilisation d'effet de gain dans des structures de photodiodes avalanche ou APD pour Avalanche PhotoDiode Ces développements nécessitent une excellente connaissance des paramètres physiques du matériau notamment dopage mobilité et durée de vie des porteurs ainsi qu'une bonne adaptation et un bon contrôle des procédés technologiques de fabrication Parmi ces procédés la gravure assistée par plasma du CdxHg1 xTe apparaît comme une étape incontournable mais encore mal maîtrisée En particulier les mécanismes de gravure et l'influence de l'étape sur les propriétés électriques du matériau en modifiant le dopage ou la durée de vie des porteurs minoritaires ainsi que sur la surface des motifs photolithographiés apparition de rugosité modification de la stoechiométrie restent mal connus Cette étape est donc un point clé qu'il nous faut étudier de façon approfondie pour permettre l'utilisation de la gravure plasma dans les procédés de fabrication des prochaines générations de détecteurs Descriptif du sujet Le Laboratoire Infrarouge LIR du Département d'Optronique du CEA LETI développe depuis ans des technologies de détection infrarouge IR dont les très bonnes performances lui ont permis d'acquérir un statut de laboratoire de référence au niveau mondial Ces technologies sont transférées l'industriel Sofradir n°2 mondial du secteur qui produit des matrices de détection de 2ème génération sous licence exclusive du CEA Ces générations de détecteurs dits monospectraux travaillent dans une bande unique définie par la composition du matériau ...
3 pages
Français
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