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Revêtements minces Zn-Si-O et Ti-Si-O : élaboration au moyen d'un procédé plasma hybride pulvérisation cathodique-PECVD et caractérisation, Zn-Si-O and Ti-Si-O composite thin films : synthesis by a hybrid PECVD-sputtering plasma process and caracterisation
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Revêtements minces Zn-Si-O et Ti-Si-O : élaboration au moyen d'un procédé plasma hybride pulvérisation cathodique-PECVD et caractérisation, Zn-Si-O and Ti-Si-O composite thin films : synthesis by a hybrid PECVD-sputtering plasma process and caracterisation
180 pages
Français
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