#hexamethyldisiloxane

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Plasmas micro-ondes en cavité résonnante à la pression atmosphérique : étude des plasmas d hélium et applications au traitement des matériaux, Microwave plasmas at atmospheric pressure in resonant cavity : study of helium plasmas and applications to materials treatment
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Plasmas micro-ondes en cavité résonnante à la pression atmosphérique : étude des plasmas d'hélium et applications au traitement des matériaux, Microwave plasmas at atmospheric pressure in resonant cavity : study of helium plasmas and applications to materials treatment

Rodrigo Perito Cardoso

Plasmas micro-ondes en cavité résonnante à la pression atmosphérique : étude des plasmas d hélium et applications au traitement des matériaux, Microwave plasmas at atmospheric pressure in resonant cavity : study of helium plasmas and applications to materials treatment Alternate Text
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Savoirs

Plasmas micro-ondes en cavité résonnante à la pression atmosphérique : étude des plasmas d'hélium et applications au traitement des matériaux, Microwave plasmas at atmospheric pressure in resonant cavity : study of helium plasmas and applications to materials treatment

Rodrigo Perito Cardoso

Book

215 pages

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Français

Revêtements minces Zn-Si-O et Ti-Si-O : élaboration au moyen d un procédé plasma hybride pulvérisation cathodique-PECVD et caractérisation, Zn-Si-O and Ti-Si-O composite thin films : synthesis by a hybrid PECVD-sputtering plasma process and caracterisation
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Revêtements minces Zn-Si-O et Ti-Si-O : élaboration au moyen d'un procédé plasma hybride pulvérisation cathodique-PECVD et caractérisation, Zn-Si-O and Ti-Si-O composite thin films : synthesis by a hybrid PECVD-sputtering plasma process and caracterisation

Alain Daniel

Revêtements minces Zn-Si-O et Ti-Si-O : élaboration au moyen d un procédé plasma hybride pulvérisation cathodique-PECVD et caractérisation, Zn-Si-O and Ti-Si-O composite thin films : synthesis by a hybrid PECVD-sputtering plasma process and caracterisation Alternate Text
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Savoirs

Revêtements minces Zn-Si-O et Ti-Si-O : élaboration au moyen d'un procédé plasma hybride pulvérisation cathodique-PECVD et caractérisation, Zn-Si-O and Ti-Si-O composite thin films : synthesis by a hybrid PECVD-sputtering plasma process and caracterisation

Alain Daniel

Book

180 pages

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Français

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