Chapitre III Etude des états de surface dans les MESFETs 4H-SiC Chapitre III : PARTIE B : Caractéristiques statiques et états de surface dans les MESFET 4H-SiC III.1 Introduction Le comportement transitoire du courant de drain peut également être causé par des états de surface. Pour cela, dans ce chapitre, nous présentons l’ensemble des mesures I-V réalisées sur les transistors MESFETs 4H-SiC ayant une couche tampon optimisée afin d’éliminer l'injection de porteurs au niveau du substrat (série 292). III.2 Caractéristiques statiques. III.2.1 Caractéristiques de transfert Ids-Vgs-T, pour un MESFET SiC de longueur de grille 1µm. T=85K0,25V =-12.42VTS292, Lg=1µm0,200,150,100,050,00-20 -15 -10 -5 0Vgs(V)Figure III.35 : Caractéristique statique à T= 85K du MESFET 4H-SiC Les réseaux des caractéristiques Ids-Vgs en fonction de la température qui sont représentés sur les figures III.35, III.36 et III.37, montrent un décalage de la tension de seuil avec la température. Ce décalage de tension de seuil entre 85K et 470K est de ∆V=4V. 115Ids(A) Chapitre III Etude des états de surface dans les MESFETs 4H-SiC 0,40 T=300K0,35 V = -15.29VTS292, Lg=1µm0,300,250,200,150,100,050,00-0,05-20 -15 -10 -5 0Vgs(V)Figure III.36 : Caractéristique statique à T=300K. -1 T=470K3,0x10V =-16.10VTS292,Lg=1µm-12,5x10-12,0x10-11,5x10-11,0x10-25,0x100,0-20 -15 -10 ...
Voir