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Contribution à la compréhension de l'épitaxie du diamant élaboré par MPCVD assisté par polarisation sur silicium : étude de la réactivité du substrat et influence des étapes de prétraitement sur le dépôt, Contribution to the comprehension of BIAS assisted MPCVD diamond epitaxy on silicon : study of susbstrate reactivity and pretreatment stages influence on deposit
Aurore Guise
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Contribution à la compréhension de l'épitaxie du diamant élaboré par MPCVD assisté par polarisation sur silicium : étude de la réactivité du substrat et influence des étapes de prétraitement sur le dépôt, Contribution to the comprehension of BIAS assisted MPCVD diamond epitaxy on silicon : study of susbstrate reactivity and pretreatment stages influence on deposit
Aurore Guise
210 pages
Français