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Alain Daniel

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Revêtements minces Zn-Si-O et Ti-Si-O : élaboration au moyen d un procédé plasma hybride pulvérisation cathodique-PECVD et caractérisation, Zn-Si-O and Ti-Si-O composite thin films : synthesis by a hybrid PECVD-sputtering plasma process and caracterisation

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Savoirs

Revêtements minces Zn-Si-O et Ti-Si-O : élaboration au moyen d'un procédé plasma hybride pulvérisation cathodique-PECVD et caractérisation, Zn-Si-O and Ti-Si-O composite thin films : synthesis by a hybrid PECVD-sputtering plasma process and caracterisation

Alain Daniel

180 pages

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